装饰薄膜ZrN的中频反应磁控溅射沉积工艺研究

• 作者: 周智男 孙维连 李新领 杨钰瑛 邢雅周
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: ZrN薄膜 工艺 中频溅射
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 1989字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.03.004

摘要

利用中频反应磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基底上沉积ZrN薄膜.通过控制N/Ar、溅射功率和基体偏压等参数,得到不同实验条件的ZrN膜层.通过对膜层颜色测量和AES分析,研究N分压强对ZrN膜层质量的影响.实验结果表明:工作气压0.3 Pa,溅射功率5 kW,基体偏压-150 V、占空比50%等工艺参数一定的前提下,N分压强在不同的范围内,可以分别制备出视觉效果类似于18 K、23 K和纯金的氮化锆膜层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙维连	河北农业大学机电工程学院	96	375	10.0	12.0
2	杨钰瑛	河北农业大学机电工程学院	12	73	5.0	8.0
3	邢雅周	河北农业大学机电工程学院	25	65	5.0	6.0
4	李新领	河北农业大学机电工程学院	23	98	7.0	8.0
5	周智男	河北农业大学现代教育技术中心	30	75	5.0	7.0