CrNx薄膜的制备及结构分析

• 作者: 于玉城 刘志远 晋勇 赵广彬
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: CrNx薄膜 热阴极离子镀 XRD
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2327字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.01.005

摘要

用正交设计法L16设计了五因素四水平共16种工艺,用热阴极离子镀在GCr15块规上制备CrNx薄膜.用X射线衍射议(XRD)分别对16个试样进行了物相分析及结构分析,用显微硬度计(25 g)测试了显微硬度,并对检测结果进行了分析讨论.结果表明:工艺参数的变化对于CrNx薄膜的制备会产生重要影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	晋勇	四川大学材料学院	21	205	8.0	14.0
2	赵广彬	西华大学材料学院	24	89	6.0	7.0
3	于玉城	西华大学材料学院	3	31	2.0	3.0
4	刘志远	西华大学材料学院	3	10	2.0	3.0