PCVD法制备的Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜的高温氧化行为

• 作者: 吴贵智 徐可为 徐彬 郭岩 马胜利
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ti-Si-C-N 纳米复合超硬薄膜 晶粒尺寸 抗氧化温度
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 页码范围: 159-164
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 5385字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2007.02.009

摘要

用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢基体上沉积出Ti-Si-C-N超硬薄膜.XRD,XPS及HRTEM等测试表明,薄膜由纳米晶/非晶复合结构组成(nc-Ti(C,N)/a-Si3N4/a-C-C或nc-Ti(C,N)/h-Si3N4/a-Si3N4/a-C-C).Ti(C,N)显示(200)晶面择优取向.高温氧化实验显示:随Ti含量降低和Si含量增大,Ti-Si-C-N薄膜的抗氧化温度逐步提高;当Ti含量为8.7%、Si含量为17.8%时,薄膜中出现少量晶化的密排六方结构的h-Si3N4,弥散分布在非晶基体中,薄膜抗氧化温度达到900℃.Ti-Si-C-N薄膜的氧化过程分为增重和失重两个阶段,进入失重阶段后薄膜很快失效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	马胜利	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	51	461	12.0	18.0
3	郭岩	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	5	24	3.0	4.0
4	徐彬	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	3	1	1.0	1.0
5	吴贵智	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	2	5	1.0	2.0