化学镀工艺对Co-B功能膜沉积速率与结构的影响

• 作者: 廖树帜 张淳 张邦维 蒋登辉
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钴硼合金 化学镀 非晶态 结构 沉积速率
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2|TG146.1
• 字数: 1925字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.02.002

摘要

以硫酸钴为主盐、硼氢化钠为还原剂制备了Co-B合金功能膜.主盐及还原剂的质量浓度增大都会加快沉积速率,但当两者超过一定值时,沉积速率反而下降.pH的增大和温度的升高也会加快沉积速率,而配位剂(酒石酸钠)质量浓度的增大,则会降低沉积速率.X射线衍射实验结果表明,化学镀Co-B合金在镀态下是非晶态.温度升高、主盐质量浓度增大及配位剂质量浓度减小都使镀层有形成晶态的趋势.原子力显微镜(AFM)照片显示:镀层表面由球状突起颗粒构成,颗粒尺寸为0.6～2 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张淳	湖南师范大学数学与计算机科学学院	8	30	4.0	5.0
2	廖树帜	湖南师范大学物理与信息科学学院	20	50	4.0	6.0
6	张邦维	中国科学院国际材料物理中心	40	216	8.0	12.0
8	蒋登辉	湖南师范大学物理与信息科学学院	4	8	1.0	2.0