氮离子轰击改善胶体石墨薄膜平面场发射特性的研究

• 作者: 于利刚 孙辉 张耿民 王玮玮
• 来源期刊: 北京大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氮离子(N+) 溅射轰击 石墨 场发射阵列
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 412-416
• 页数: 5页
• 分类号: TN141|TN103
• 字数: 3320字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0479-8023.2007.03.022

摘要

研究了氮离子(N+)轰击对石墨薄膜场发射特性的影响.片层石墨被N+轰击成较整齐排列的锥尖阵列,尖端密度～108cm -2.XPS谱证实有许多N原子注入薄膜,膜内存在大量sp2杂化轨道键.场发射测试表明,经过N+轰击,整个薄膜在场发射的均匀一致性方面有较明显的改善,场发射电流密度从0.3增大到1.65mA/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张耿民	北京大学信息科学技术学院电子学系	26	189	8.0	13.0
2	王玮玮	北京大学信息科学技术学院电子学系	3	0	0.0	0.0
3	孙辉	北京大学信息科学技术学院电子学系	2	0	0.0	0.0
4	于利刚	北京大学信息科学技术学院电子学系	4	38	3.0	4.0