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电介质刻蚀工艺简介
电介质刻蚀工艺简介
作者:
任伟
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篇名
电介质刻蚀工艺简介
来源期刊
集成电路应用
学科
关键词
年,卷(期)
2007,(1)
所属期刊栏目
综合报道
研究方向
页码范围
56
页数
1页
分类号
字数
1437字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-2583.2007.01.021
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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G指数
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任伟
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集成电路应用
主办单位:
上海贝岭股份有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-2583
CN:
31-1325/TN
开本:
16开
出版地:
上海宜山路810号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
4823
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15
总被引数(次)
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