基于S7-200的化学反应釜温控系统

• 作者: 万学维 任劲松 何顶新 徐金榜 王维
• 来源期刊: 电气传动
• 学科: 工学
• 关键词: 化学反应 温控系统 智能PID算法
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 计算机·PLC应用
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TP3
• 字数: 2975字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2095.2007.02.011

摘要

介绍了基于西门子PLC S7-200的化学反应釜温控系统.化学工艺要求PLC能自动控制化学反应釜内的温度,使温度能实时跟踪用户设定的工艺曲线.在上位机设计了监控界面,便于系统调试和用户设定参数;在下位机以CPU224为控制器,配合其它功能模块,使用智能化PID算法来控制化学反应釜的温度,达到了预期效果,用户非常满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何顶新		58	413	11.0	18.0
2	任劲松		3	19	2.0	3.0
3	王维		35	244	9.0	14.0
4	徐金榜		53	565	12.0	22.0
5	万学维		1	13	1.0	1.0