中高度近视患者LASEK术中运用丝裂霉素C预防Haze的临床研究

• 作者: 林雅娜 祁勇军 郑晓硕 郑晖
• 来源期刊: 眼科新进展
• 学科: 医学
• 关键词: 近视 准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术 丝裂霉素C
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 应用研究
• 页码范围: 535-537
• 页数: 3页
• 分类号: R779.6
• 字数: 3079字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5141.2007.07.016

摘要

目的 研究准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术(laser epithelial keratomileusis,LASEK)术中使用体积分数0.02%丝裂霉素C(mitomycin C,MMC)预防Haze反应措施的可行性与安全性.方法 随机选取进行LASEK手术的近视患者100例,以右眼为实验组,左眼为对照组.对照组进行常规LASEK手术,实验组在激光角膜切削完毕后立即将浸透了体积分数0.02%MMC溶液的6 mm直径滤纸片覆盖在角膜基质床上,持续12 s,充分冲洗角膜,复位角膜上皮,配戴-1.0D角膜接触镜.随访观察12个月.结果 术后12个月内,对照组出现0.5～1级Haze 15例,2级以上Haze 4例;实验组出现0.5～1级Haze 5例,未出现2级以上Haze;差异有统计学意义(P＜0.05).实验组角膜上皮的愈复时间、疼痛反应与对照组相比差异无统计学意义.结论 LASEK术中使用体积分数0.02%MMC处理角膜切削面,可以有效预防LASEK术后Haze增生,提高LASEK术后的远期效果,使用简单安全.