光催化材料NiO-TiO2/SiO2的结构与性能研究

• 作者: 孔令丽 柳荫 钟顺和
• 来源期刊: 分子催化
• 学科: 化学
• 关键词: 表面改性法 复合半导体 光催化材料 吸光性质 能带结构
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 545-549
• 页数: 5页
• 分类号: O643.3
• 字数: 3006字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3555.2007.06.010

摘要

采用表面改性法制备了负载型NiO-TiO2/SiO2复合半导体材料,用X射线衍射、比表面测定、透射电镜、红外光谱、拉曼光谱、紫外-可见漫反射等技术,研究了光催化材料的物相结构、微粒尺寸、光响应性能及其能带结构.结果表明:复合半导体材料具有较高的比表面积,NiO和TiO2在材料表面产生相互修饰作用,NiO的加入促进了TiO2在载体表面的分散程度,两者复合后部分地形成了Ni-O-Ti键联.复合后的NiO-TiO2/SiO2增强了对紫外光的吸收性能,而且NiO与TiO2间的n-p复合效应改变了原来TiO2单一的能带结构,有效的抑制了光生电子和空穴的复合,从而明显提高材料的光催化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟顺和	天津大学化工学院	156	2360	26.0	39.0
2	孔令丽	天津大学化工学院	8	115	5.0	8.0
3	柳荫	天津大学化工学院	3	82	3.0	3.0