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激光双曝光全息干涉技术在测取射流密度场中的应用
激光双曝光全息干涉技术在测取射流密度场中的应用
作者:
殷木良
王海龙
陈志敏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
全息干涉
射流流场
密度场
激光双曝光
摘要:
准确预测射流流场密度对引信电机的研制有着重要的作用.本文介绍一种采用双曝光全息干涉法测取射流流场密度的基本原理及实验过程.给出了射流空场和射流绕模型情况下不同速度的密度场分布及变化规律,为射流流场密度分布的定量测量提供了一种新的方法.
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文献信息
篇名
激光双曝光全息干涉技术在测取射流密度场中的应用
来源期刊
应用激光
学科
工学
关键词
全息干涉
射流流场
密度场
激光双曝光
年,卷(期)
2007,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
201-204,200
页数
5页
分类号
TN2
字数
2694字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-372X.2007.03.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王海龙
西北工业大学流体系
6
110
5.0
6.0
2
陈志敏
西北工业大学流体系
46
230
8.0
12.0
3
殷木良
西北工业大学流体系
3
13
2.0
3.0
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研究主题发展历程
节点文献
全息干涉
射流流场
密度场
激光双曝光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
应用激光
主办单位:
上海市激光技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-372X
CN:
31-1375/T
开本:
大16开
出版地:
上海市宜山路770号
邮发代号:
4-376
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2900
总下载数(次)
9
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