化学镀镍在微电子领域的应用及发展前景

• 作者: 宣天鹏 贾韦
• 来源期刊: 稀有金属快报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀镍 微电子 计算机存储
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 1-6
• 分类号: TQ153.12
• 字数: 7192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-3962.2007.03.001

摘要

介绍了化学镀镍工艺的基本原理、化学镀镍合金层的物理和化学性质及其研发现状.重点阐述了化学镀镍技术在微电子领域的应用,包括UBM制作、印制电路板表面终饰工艺和LCR元件制造,以及在计算机存储领域的应用.指出,减少污染、延长镀液使用寿命、降低成本仍然是化学镀镍面临的一项长期的任务;其在微电子领域中的镍镀层的多功能化、镀层高密度化存储、纳米微粒掺杂新型功能性镀层等更深层次的需求有着广阔的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宣天鹏		84	1199	19.0	28.0
2	贾韦		3	43	2.0	3.0