离子束溅射与射频溅射制备的ZnO薄膜的特性分析

• 作者: 李合琴 赵之明 顾金宝
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束沉积 射频磁控溅射 结构 形貌
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 实验技术与方法
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2260字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2007.01.005

摘要

分别采用两种不同的方法制备了ZnO薄膜.①离子束溅射法(IBD),在Si(001)衬底上制备锌膜后在氧气氛炉中退火;②射频溅射法(RF),在Si(001)衬底上制备ZnO薄膜后在氧气氛炉中退火.利用X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)以及电感、电容、电阻综合测试仪(LCR)对两种方法制备的ZnO薄膜的结构、形貌和导电性进行了比较研究.结果表明,离子束溅射的锌膜经热氧化后得到的ZnO薄膜生长的单向性较差,表面粗糙度较大,薄膜的电阻率也比较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
2	顾金宝	合肥工业大学材料科学与工程学院	6	21	3.0	4.0
3	赵之明	合肥工业大学材料科学与工程学院	8	37	3.0	6.0