室温电化学法制备白钨矿SrWO4晶态膜的生长特性研究

• 作者: 余萍 刘志强 安红娜 杨祖念 王辉 肖定全 陈连平 黄昕
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电化学技术 SrWO4薄膜 负离子配位多面体 晶态薄膜生长过程
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 1056-1061
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.020

摘要

采用恒电流电化学技术直接在金属钨片上制备了具有白钨矿结构的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜,通过SEM和EDX测试分析方法,研究了薄膜在不同的生长阶段(包括薄膜从最初成核并开始生长,到薄膜布满整个基片,即薄膜生长结束)的生长特性.研究结果表明,SrWO4晶核和晶粒优先选择在基片的缺陷处堆砌生长,在薄膜生长的初期,一定数量的WO4负离子配位多面体沉积在基片上并形成具有白钨矿结构的骨架,继而Sr2+对该骨架进行填充,由此形成晶核和晶粒;随着沉积时间的延长,晶粒密度不断增大,晶核和晶粒也不断长大,并沿着c轴生长的方向开始分叉,晶粒越大分叉越多;最终,当SrWO4薄膜生长过程结束时,团簇生长的花菜状晶粒布满整个基片,形成致密的薄膜.该研究结果对晶态薄膜电化学制备生长机制的认识、以及采用电化学方法制备晶态薄膜的工艺调控都具有重要意义.