氮化铝薄膜光学常数和结合力测试分析

• 作者: 刘文 卫静婷 杨清斗 王质武
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化铝薄膜 椭圆偏振仪 消光系数 划痕仪 结合力
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 935-938,979
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2256字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.05.019

摘要

用直流磁控溅射方法在硅衬底上制备氮化铝薄膜.X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪分析了薄膜的结构和成分;椭圆偏振仪测量并拟合获得AIN薄膜在250～1000 nm波长范围内的折射率和消光系数曲线;利用大荷载划痕仪的声发射谱检测方法并结合不同压力下的划痕显微形貌观察得到薄膜临界载荷(结合力)Lc为29.45N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘文	深圳大学光电子学研究所广东省光电子器件与系统重点实验室	29	73	5.0	7.0
5	杨清斗	深圳大学光电子学研究所广东省光电子器件与系统重点实验室	1	3	1.0	1.0
9	王质武	深圳大学光电子学研究所广东省光电子器件与系统重点实验室	1	3	1.0	1.0