射频磁控溅射制备Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜的表面结构调控

• 作者: 古宏伟 李弢 王萍 谢波玮
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 Pt/Ti/SiO2/Si BST薄膜 表面形貌
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 125-128
• 页数: 4页
• 分类号: TM26
• 字数: 2171字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2007.01.026

摘要

研究了Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备Ba0.7Sr0.3TiO3(BST7/3)薄膜时,基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响.实验结果表明:常温下低功率溅射的BST7/3薄膜,表面形貌非常平整,但为非晶态物质的堆积;400 ℃高功率150 W溅射4 h的BST薄膜,其最大表面起伏约为40 nm;400 ℃低功率、长时间8 h溅射的BST薄膜,其表面起伏约为12 nm;说明在保证BST充分成相的前提下,可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌,降低表面粗糙度,使之适于后续器件制备工艺.介电性能测量表明,400 ℃,75 W,8 h溅射获得的BST7/3薄膜体现出典型的位移型铁电体特征;1 kHz薄膜的损耗约为0.04.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	古宏伟		33	206	6.0	13.0
2	谢波玮		3	5	1.0	2.0
3	李弢		21	85	5.0	8.0
4	王萍		1	1	1.0	1.0