自偏压对含氢非晶碳膜光学特性的影响

• 作者: 巴德纯 李明 王凤 蔺增
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 含氢非晶碳膜 等离子体增强化学气相沉积 自偏压 光学特性
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 350-353
• 页数: 4页
• 分类号: TB79
• 字数: 2157字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2007.04.018

摘要

利用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)方法,以CH4、Ar和H2为气源,在CR-39树脂材料上制备出了含氢非晶碳膜(a-C;H膜).研究了不同偏压对a-C:H膜生长过程和光学特性的影响.使用激光拉曼光谱(Raman)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)对样品的结构和成分进行了表征,分别使用纳米压痕仪和紫外一可见光分光光度计测试了样品的机械和光学特性.结果表明,自偏压对a-CH膜的生长具有重要影响.随着自偏压的升高,所沉积a-C:H膜中的sp3含量降低,薄膜的硬度和光学透过率也下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
2	蔺增		40	160	7.0	9.0
4	李明		58	365	10.0	16.0
5	王凤		6	40	5.0	6.0