一种新型的掩膜管理控制系统的研制

• 作者: 刘云 徐德 汪建华 王秀青 谭民 赵晓光
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 掩膜版 预对准 四象限光电探测器 控制系统 光刻机 梯形图
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 先进制造与自动化技术
• 页码范围: 32-38
• 页数: 7页
• 分类号: TP3
• 字数: 5977字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.2007.01.007

摘要

研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统.系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、PLC控制器和伺服驱动器等构成;系统软件由基于VC的上层管理程序以及基于梯形图的底层流程控制程序构成,其中上掩膜版和卸掩膜版是流程控制的主要组成部分.介绍了四象限光电探测器的对准工作原理和掩膜版的粗、精细预对准方法,实验测试了上、卸掩膜版的节拍,粗、精细预对准时间和掩膜版经过精细预对准后的重复定位精度,讨论了激光器和四象限光电探测器相对 位姿的标定方法,并指出了该系统的特点.实验结果表明,该系统性能稳定,主要指标能够满足掩膜光刻机的实际生产要求.