100型MEVVA源注入机注入均匀性研究

• 作者: 刘安东 吴先映 张荟星 彭建华 李强 王桂岳
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 金属蒸汽真空弧 离子注入 0°定位 45°定位 注入均匀性
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TL503.3
• 字数: 2162字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.01.007

摘要

提高金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc, MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键.为此开展了100型MEVVA源注入机大批量的工件注入均匀性的研究.本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,研究了0°定位自转、靶盘公转自转、45°定位自转的注入离子浓度分布.这三种方式的注入离子浓度分布都不能满足大批量均匀注入的需要.但45°定位自转的注入离子浓度分布的趋势与另两种相反,这意味着将45°定位自转与0°定位自转或靶盘公转自转相结合进行复合注入,可以得到均匀的注入效果.通过对几种注入方式的拟合计算来确定复合注入的注入比例.最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的复合注入,得到了相当均匀的注入效果.