AlN电子薄膜材料的研究进展

• 作者: 周继承 石之杰
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: AlN电子薄膜材料 电子元器件 应用 进展
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 14-16,24
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 5195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.05.004

摘要

AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用.简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN薄膜的应用,并综述了近年来AlN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面渡器件压电薄膜的研究现状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周继承	中南大学物理科学与技术学院	96	780	15.0	21.0
2	石之杰	中南大学物理科学与技术学院	2	27	2.0	2.0