氧离子辅助反应蒸发法制备ITO薄膜的研究

• 作者: 何光宗 姚细林 熊长新
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: ITO薄膜 氧离子辅助 反应蒸发
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 71-74
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2977字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2007.01.019

摘要

采用氧离子辅助电子束反应蒸发工艺在K9玻璃基底上制备了性能优异的ITO薄膜.通过对薄膜方块电阻和透过率的测量分析,研究了基底温度、离子束流、沉积速率等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响.发现升高基底温度有利于减小薄膜的短波吸收,但过高的基底温度会增加薄膜的电阻率,合适的沉积速率可以同时改善薄膜的光学和电学性能.在比较理想的工艺参数下制备的ITO薄膜的电阻率约为5.4×10-4Ω·cm,可见光(波长范围425～685 nm)平均透过率达84.8%,其光电性能均达到实用化要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊长新		11	60	4.0	7.0
2	何光宗		4	14	2.0	3.0
3	姚细林		3	13	2.0	3.0