聚酰亚胺/纳米碳化硅复合薄膜的制备及性能研究

• 作者: 王铎
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 聚酰亚胺 纳米碳化硅 复合薄膜 低介电常数
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研制
• 页码范围: 7-9
• 页数: 3页
• 分类号: TM215.3|TQ323.7|TQ316.62
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2007.02.003

摘要

以均苯四甲酸二酐、4,4'-二氨基二苯醚、N,N'-二甲基乙酰胺为原料,经化学合成反应制备了聚酰亚胺/纳米碳化硅复合薄膜.采用红外光谱(FTIR)、透射电子显微镜(TEM)、阻抗分析仪等手段表征了材料的结构及介电性能.结果表明,该复合薄膜的介电常数比纯聚酰亚胺和碳化硅均显著降低,吸水率下降.这种材料有望替代聚酰亚胺/二氧化硅复合材料,作为低介电常数的微电子介质材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王铎	陕西理工学院化学学院	44	142	7.0	8.0