退火温度对Nb掺杂SrTiO3薄膜光电化学性能的影响

• 作者: 涂江平 王改田 王淑芬 王秀丽
• 来源期刊: 中山大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 钛酸锶 储氢合金 光充电 退火温度
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 能源与环境材料国际研讨会专辑
• 页码范围: 15-16
• 页数: 2页
• 分类号: TM912.2
• 字数: 690字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0529-6579.2007.z1.007

摘要

研究了Nb掺杂SrTiO3薄膜的光电化学性能及其对储氢合金薄膜的光充电性能.采用射频磁控溅射将SrTiO3薄膜沉积在镍片基体上,在300～600℃退火处理后,采用直流磁控溅射将LaNi3.9Al1.3储氢合金薄膜沉积在镍片基体的背面构成SrTiO3/Ni/储氢合金电极.随着Nb掺杂SrTiO3薄膜热处理温度的升高,阳极光电流和光充电性能先增大后减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	涂江平	浙江大学材料科学与工程系	82	1603	23.0	38.0
2	王秀丽	浙江大学材料科学与工程系	7	462	4.0	7.0
3	王淑芬	浙江大学材料科学与工程系	2	1	1.0	1.0
4	王改田	浙江大学材料科学与工程系	3	12	2.0	3.0