ZrN/W2N纳米多层膜的调制比对其性能的影响

• 作者: 李德军 杨瑾 王明霞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 ZrN/W2N纳米多层膜 调制比 硬度
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 101-104
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|TG174.4
• 字数: 3418字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2007.02.004

摘要

利用射频磁控溅射系统制备了调制周期为30 nm的具有不同调制比例的ZrN/W2N纳米多层膜.研究表明:ZrN/W2N纳米多层膜的界面清晰,通过把ZrN周期性地插入到W2N层,多层薄膜的整体应力得到缓解.在调制比tZrN∶tW2N=2∶3时,纳米多层膜的应力值最小.多层膜的硬度和弹性模量基本高于ZrN和W2N单层材料的平均值,随着调制比的减小,它们的值均有上升趋势,并在tZrN∶tW2N=2∶3时分别达到最高值34 GPa和424 GPa,同时多层膜的膜基结合强度也达到最佳效果,其临界载荷超过了100 mN.多层膜的机械性能改善明显与其调制层结构和多晶结构有着直接的联系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
3	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0