SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法

• 作者: 冯明 周再发 朱真 李伟华 黄庆安
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8胶 菲涅耳衍射 丙三醇
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2011-2017
• 页数: 7页
• 分类号: TN305
• 字数: 5801字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.12.030

摘要

基于SU-8胶的UV-LIGA技术是MEMS中制备高深宽比结构的一种重要方法,但由于衍射效应会使结构的侧壁不再垂直.根据菲涅耳衍射模型,考虑了丙三醇/SU-8界面的反射和折射现象,模拟了丙三醇填充在掩膜版和光刻胶之间时的刻蚀图形.计算结果与已有的实验进行了比较,模型基本可以描述这种光刻过程,可在设计时作为参考.