半导体单晶生长过程中的位错研究

• 作者: 刘俊成 崔红卫 张国栋 翟慎秋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 位错密度 半导体 单晶生长 熔体法
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 页码范围: 301-307
• 页数: 7页
• 分类号: O772
• 字数: 5069字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.02.014

摘要

阐述了现有的半导体单晶位错模型,即临界切应力模型和粘塑性模型的基本理论及应用状况.分析了熔体法单晶生长过程中影响位错产生、增殖的各种因素,以及抑制位错增殖的措施.与熔体不润湿、与晶体热膨胀系数相近的坩埚材料,低位错密度的籽晶可有效地抑制生长晶体的位错密度;固液界面的形状及晶体内的温度梯度是降低位错密度的关键控制因素,而两因素又受到炉膛温度梯度、长晶速率、气体和熔体对流等晶体生长工艺参数的影响.最后,对熔体单晶生长过程的位错研究进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张国栋	山东理工大学材料科学与工程学院	5	46	4.0	5.0
2	刘俊成	山东理工大学材料科学与工程学院	83	537	13.0	18.0
3	崔红卫	山东理工大学材料科学与工程学院	28	154	8.0	11.0
4	翟慎秋	山东理工大学工程技术学院	16	51	4.0	7.0