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Cu/低k对45和32nm节点的挑战
Cu/低k对45和32nm节点的挑战
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摘要：
推荐文章
32nm CMOS工艺技术挑战
CMOS技术
32nm技术节点
迁移率增强
金属栅/高k栅介质
超低k介质
45nm CMOS工艺下的低泄漏多米诺电路研究
多米诺逻辑
阈值电压
亚阈值泄漏
栅极氧化层
Cu2+对黄鳝肝脏和性腺组织及其线粒体中(Na++K+)-ATPase活性的影响
Cu2+
黄鳝
(Na++K+)-ATPase活性
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期刊影响力
集成电路应用
主办单位：
上海贝岭股份有限公司
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-2583
CN：
31-1325/TN
开本：
16开
出版地：
上海宜山路810号
邮发代号：
创刊时间：
1984
语种：
chi
出版文献量（篇）
4823
总下载数（次）
15
总被引数（次）
4205
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