纳米级工艺制程仿真SenTaurus Process的应用

• 作者: 于英霞 侯志刚 张宪敏 李惠军
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路 纳米层次 工艺仿真 可制造性设计
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 纳米器件与技术
• 页码范围: 295-298,311
• 页数: 5页
• 分类号: TN405|TN402
• 字数: 2357字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2007.06.004

摘要

基于Synopsys Inc.最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process,实现了CMOS 架构的nm级NMOS制程的工艺级可制造性设计.仿真结果体现了SenTaurus Process的强大功能和使用SenTaurus Process进行工艺级可制造性设计的必要性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李惠军	山东大学孟堯微电子研发中心	51	103	5.0	7.0
2	侯志刚	山东大学孟堯微电子研发中心	10	55	5.0	7.0
3	于英霞	山东大学孟堯微电子研发中心	4	21	2.0	4.0
4	张宪敏	山东大学孟堯微电子研发中心	4	21	2.0	4.0