电解抛光技术研究进展

• 作者: 张素银 曾体贤 杜凯 詹勇军 谌加军
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电解抛光 原理 粗糙度 影响因素
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 发展论坛
• 页码范围: 48-51,53
• 页数: 4页
• 分类号: TG175
• 字数: 2844字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.02.014

摘要

介绍了电解抛光技术的研究现状、特点及抛光原理,分析了工件表面粗糙度的主要影响因素.指出了电解抛光技术存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜凯	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	72	527	11.0	19.0
2	曾体贤	西华师范大学物理与电子信息学院	47	165	5.0	12.0
3	张素银	西华师范大学物理与电子信息学院	3	91	3.0	3.0
5	詹勇军	西华师范大学物理与电子信息学院	3	82	2.0	3.0
9	谌加军	西华师范大学物理与电子信息学院	3	88	2.0	3.0