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一种高温工作的激光测距SOICMOS集成电路
一种高温工作的激光测距SOICMOS集成电路
作者:
刘善喜
刘梦新
安涛
张新
马立国
高勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
绝缘体上的硅
高温特性
单管
全耗尽
摘要:
基于薄膜全耗尽SOICMOS工艺,进行了建模分析,在300~600 K温度范围内,利用ISETCAD软件对SOICMOS器件单管高温特性进行了模拟分析,同时利用Verilog软件对激光测距电路进行了整体仿真.通过工艺流片,实现了一种电路级具有完整功能和参数要求的高温工作的激光测距SOICMOS集成电路.通过实际测试表明模拟结果与之相吻合,同时通过对整体电路结果功能和参数在常温和高温下的测试,表明该电路功耗低、速度快,可满足激光测距电路的要求.该电路的研制,对进一步开展高温短沟道SOICMOS集成电路的研究具有一定的指导意义.
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文献信息
篇名
一种高温工作的激光测距SOICMOS集成电路
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
绝缘体上的硅
高温特性
单管
全耗尽
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
研究快报
研究方向
页码范围
159-165
页数
7页
分类号
TN386.1
字数
965字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2007.02.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高勇
189
1184
15.0
26.0
2
刘梦新
9
19
3.0
4.0
3
安涛
50
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4
张新
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刘善喜
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二级参考文献(1)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
绝缘体上的硅
高温特性
单管
全耗尽
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
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