热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究

• 作者: 侯晓多 姜辛 张贵锋 王丽春
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 多晶硅薄膜 择优取向 晶化率 晶体形貌
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 页码范围: 1372-1376,1398
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 字数: 2969字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.06.037

摘要

采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜.利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜(AFM)研究了灯丝与衬底间距(5～10mm),灯丝温度(1800～1400℃)和衬底温度(320～205℃)对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律.结果表明,随着热丝与衬底间距增加,多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小;随热丝温度的降低,薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律:先不断增大后突然大幅减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张贵锋	大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室	17	107	6.0	9.0
2	侯晓多	大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室	14	60	5.0	6.0
3	王丽春	大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室	3	15	3.0	3.0
4	姜辛	大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室	11	74	6.0	8.0