阶段离子束辅助法制备基频减反膜

• 作者: 张大伟 范正修 贺洪波 邵建达 黄元申
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束辅助沉积 激光损伤阈值 减反膜 弱吸收 应力
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1463-1468
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3537字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924x.2007.10.001

摘要

在研究阶段离子束辅助制备方式对薄膜性质影响的基础上,采用电子枪蒸发及离子束辅助沉积制备了氧化铪及氧化硅单层膜,采用阶段离子束辅助沉积及全程非离子束辅助沉积制备了基频减反膜.测量了所有样品的弱吸收、残余应力和激光损伤阈值.结果发现,相对电子枪热蒸发制备的样品,离子束辅助沉积的单层膜具有大的弱吸收、低的激光损伤阈值,且张应力减小,压应力增加1;阶段离子束辅助沉积制备的减反膜剩余应力变小,弱吸收稍微增加,激光损伤阈值从10.91 J/cm2增加到18 J/cm2.分析表明,离子束辅助沉积在引入提高样品激光损伤阈值有利因素的同时,也引入了不利因素,阶段离子束辅助沉积在引入有利因素的同时,有效减少了不利因素的引入,从而提高了样品的激光损伤阈值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光学与电子工程学院	117	391	11.0	15.0
3	邵建达		10	77	5.0	8.0
4	贺洪波		4	22	3.0	4.0
5	范正修		8	77	5.0	8.0
6	黄元申	上海理工大学光学与电子工程学院	56	348	11.0	16.0