GaP薄膜的射频磁控溅射沉积及其计算机模拟

• 作者: 刘文婷 刘正堂 李阳平 赵海龙 闫锋
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: CaP 薄膜 射频磁控溅射 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2937-2944
• 页数: 8页
• 分类号: O6
• 字数: 6044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.05.079

摘要

以CaP为靶材采用射频磁控溅射法制备GaP红外光学薄膜,通过保持Ar Ⅰ 750nm发射光谱线强度不变获得了不同工艺参数,并对沉积过程进行了计算机模拟.功率较小、气压较大时,Ga和P的溅射率、输运效率及沉积到衬底时的能量均较小,Ga的溅射率及输运效率均大于P的,使薄膜沉积速率较低、薄膜中Ca的含量大于P的,GaP薄膜产生较大吸收.功率较大、气压较小时,Ca和P的溅射率、输运效率及沉积到衬底时的能量均增大,Ga的溅射率大于P的、但其输运效率小于P的,使GaP薄膜的沉积速率增大、薄膜中Ca与P的含量接近化学计量比,CaP薄膜的吸收降低,因此有利于制备厚度较大的CaP薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	西北工业大学材料学院	25	201	8.0	13.0
2	刘正堂	西北工业大学材料学院	120	749	14.0	21.0
3	赵海龙	西北工业大学材料学院	7	62	4.0	7.0
4	刘文婷	西北工业大学材料学院	11	34	3.0	4.0
5	闫锋	西北工业大学材料学院	12	46	4.0	6.0