光学元件清洗过程中同步辐射活化氧的研究

• 作者: 周洪军 张国斌 郑津津 钟鹏飞 霍同林
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 化学
• 关键词: 同步辐射 活化氧 氧原子 臭氧
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 2007中德双边高级专家X射线光学研讨会专栏
• 页码范围: 1921-1925
• 页数: 5页
• 分类号: O432.1|O644.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924x.2007.12.016

摘要

在同步辐射应用中,光学元件被污染是一个常见问题,而光学元件的污染会造成光通量的极大损失.为了有效地清洗光学元件,研究了清洗过程中的光化学反应,进行了氧气在同步辐射光作用下分解的实验.通过对实验中产生的气体成份分析,进行光化学反应研究.首先,测量通氧气时的气体成份;然后,测量通氧气和同步辐射光照时的气体成份.通过两者比较,分析氧气分解的情况.实验结果表明,氧分子在同步辐射光作用下发生分解,产生质量数为16的氧原子、氧离子和质量数为48的臭氧,它们的成份分别占1%和0.005%～0.01%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	霍同林	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	33	178	9.0	12.0
2	郑津津	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	56	224	8.0	11.0
3	周洪军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	41	221	10.0	13.0
4	张国斌	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	44	298	10.0	15.0
5	钟鹏飞	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	10	48	5.0	6.0