激光全息法制备二维硅基图形衬底

• 作者: 周志文 李成 王钰 赖虹凯 陈松岩
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光刻法 硅基 图形衬底
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 774-777
• 页数: 4页
• 分类号: TN26
• 字数: 2055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.05.029

摘要

理论上模拟了全息光刻法制备二维硅基图形阵列的光强分布和显影过程,通过改变激光波长及入射光与样品表面的夹角即可得到不同周期的二维图形.在此基础上,采用三束光一次曝光和湿法腐蚀图形转移技术,在n型(100)硅衬底上制备出了周期在亚微米量级的均匀二维图形阵列.该方法适合大面积硅基图形阵列的制作.