蘸水笔刻蚀技术(DPN)影响因素分析

• 作者: 寿莎
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 蘸水笔 原子力显微镜 纳米结构 刻蚀
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 6-8,11
• 页数: 4页
• 分类号: TH742.9|TG176
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.02.003

摘要

蘸水笔技术(Dip-Pen)是近年来发展起来的一种新的扫描探针刻蚀加工技术,有着广泛的应用前景.该技术是直接把弯曲形水层作为媒介来转移"墨汁"分子,在样品表面形成纳米结构.尖端曲率半径、针尖在基底表面滞留时间、针尖扫描速度、空气湿度、表面粗糙度等均会影响纳米结构的线宽.针尖在基底表面滞留时间与圆半径的平方成一次函数关系,线宽随着尖端半径的增大而变宽,扫描速度与线宽成反比关系.通过控制湿度可以控制"墨水"分子的转移速度,从而影响纳米结构的线宽.线宽随着样品表面粗糙度增加而变宽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	寿莎	浙江师范大学初阳学院	6	38	3.0	6.0