2-甲基吡啶氧化工艺研究

• 作者: 宗和厚 李旭光 熊鹰 舒远杰 高世杰
• 来源期刊: 含能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 有机化学 2-甲基吡啶 氧化 应用
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 95
• 页数: 1页
• 分类号: TQ56
• 字数: 674字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-9941.2007.01.027

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	舒远杰	中国工程物理研究院化工材料研究所	129	1101	17.0	24.0
2	宗和厚	中国工程物理研究院化工材料研究所	13	63	5.0	7.0
3	熊鹰	中国工程物理研究院化工材料研究所	24	115	6.0	9.0
4	李旭光	西南科技大学材料科学与工程学院	4	11	3.0	3.0
8	高世杰	西南科技大学材料科学与工程学院	4	11	3.0	3.0