三氯硅烷的制备及精制工艺进展

• 作者: 于剑昆
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 三氯硅烷 卤代硅烷 精制
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与专论
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4990.2007.01.005

摘要

重点描述了三氯硅烷(HSiCl3)的制备和精制工艺.HSiCl3的工业化合成方法主要有硅氢氯化法和四氯化硅-氢还原法2种,HSiCl3的精制方法主要有精馏法、吸附法和多步精制法,其中多步精制法又可分为冷凝-精馏法、反应-精馏法、吸附-精馏法等.结合使用先进的精制工艺,产品可满足高端电子产品的需求.同时介绍了高纯HSiCl3的国际生产情况,指出中国目前HSiCl3产品的纯度只能满足中低端应用,今后应加紧开发高纯度级别的产品,缩短与国外先进水平的差距.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于剑昆		86	542	13.0	17.0