氦离子辐照下金属钯薄膜的微观行为研究

• 作者: 张政军 李正操 盛兴 盛国福 胡殷
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 氦 钯 离子注入
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 结构材料及核材料性能
• 页码范围: 418-421
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2007.z1.023

摘要

采用电子束蒸发镀膜技术,在Si(100)面基底上沉积金属钯薄膜,并采用台阶仪和透射电子显微镜(TEM)对薄膜的厚度和结构进行表征.选取不同能量、不同剂量的氦离子束对钯薄膜进行注入实验,注入后,用X射线衍射分析(XRD)分析薄膜的微观行为.实验结果显示,在固定注入能量时,随着注入剂量的增加,钯薄膜的晶格发生膨胀,膨胀与注入造成的离位钯原子以及氦-空位复合物在晶格中的存在有关.原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)的测试结果表明,由于溅射作用,薄膜表面变得略为平坦.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛国福	清华大学工程物理系	2	0	0.0	0.0
2	李正操	清华大学材料科学与工程系	13	102	3.0	10.0
3	盛兴	清华大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0
4	胡殷	清华大学材料科学与工程系	2	0	0.0	0.0
5	张政军	清华大学材料科学与工程系	12	12	2.0	3.0