Fe-B合金化学沉积的影响因素分析

• 作者: 张建辉 朱一村 王巧玲 王玲玲 黄桂芳 黄维清
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: Fe-B合金 化学沉积 沉积速率 偶接铝 电化学
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 52-55
• 页数: 4页
• 分类号: TQ035
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-2472.2007.01.012

摘要

通过化学沉积法制备Fe-B化学镀层,用电化学方法分析了偶接铝、镀液组分和沉积工艺对Fe-B化学沉积行为的影响.结果表明,偶接铝使体系的沉积电位负移,降低了Fe-B合金化学沉积的极化阻力,特别是金属离子还原的极化阻力,从而诱导Fe-B的化学沉积.镀层的沉积速率依赖于镀液组分和沉积工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王玲玲	湖南大学物理与微电子科学学院	74	732	15.0	23.0
2	黄桂芳	湖南大学物理与微电子科学学院	37	236	9.0	13.0
3	王巧玲		26	87	7.0	8.0
4	黄维清	湖南大学物理与微电子科学学院	23	195	7.0	13.0
5	张建辉		13	21	3.0	4.0
6	朱一村	湖南大学物理与微电子科学学院	1	7	1.0	1.0