离子束溅射沉积薄膜技术概述

• 作者: 徐惠敏 杨恒 郑长波 齐曙光
• 来源期刊: 实验室科学
• 学科: 化学
• 关键词: 离子束溅射 溅射产额 溅射阈能 薄膜
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 仪器、设备、技术
• 页码范围: 153-156
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 2994字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4305.2007.04.066

摘要

离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制.目前国内对这方面研究和介绍甚少.本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨恒		1	27	1.0	1.0
2	齐曙光		1	27	1.0	1.0