溅射时间对γ'-Fe4N薄膜的磁性影响

• 作者: 宫杰 支文
• 来源期刊: 长春大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: γ'-Fe4N薄膜 饱和磁化强度 矫顽力
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 数理科学
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1+3
• 字数: 2455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-3907-B.2007.04.006

摘要

采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃衬底上于不同溅射时间获得了γ'-Fe4N单相薄膜.利用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)研究了溅射时间对薄膜的生长及磁性性能的影响.结果表明薄膜样品明显沿γ'-Fe4N(111)晶面择优取向进行生长,其(111)晶面平行于样品的膜面.随溅射时间的增加,薄膜样品的晶粒尺寸没有明显的变化,薄膜厚度和矫顽力随溅射时间的增加而显著增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宫杰	长春大学理学院	13	28	3.0	4.0
2	支文	长春大学理学院	21	54	5.0	6.0