低能高电荷态Arq+(q=12,13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究

• 作者: 崔莹 张小安 张毅 张红强 徐徐 徐进章 杜娟 杨治虎 王博宇 肖国青 胡碧涛 邵剑雄 陈熙萌
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: L壳层X射线 钼 氩离子 低能高电荷态
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 858-862
• 页数: 5页
• 分类号: O562.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2007.04.037

摘要

本文报导了低能高电荷态Arq+(q=12,13)离子诱发的钼L壳层X射线强度随入射粒子能量的变化趋势,研究表明当入射粒子能量高于220 keV时,钼L壳层X射线强度有明显增加的的趋势.同时,我们提出了一个简单的模型去估计这种趋势随入射能量的变化.模型计算的结果与实验值符合的比较好.