柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

• 作者: 康光宇 马胜歌
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 黑色硬质膜 Ti-N-C 柱弧离子镀 中频溅射 非平衡磁控溅射
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3399字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2007.04.013

摘要

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马胜歌		12	67	6.0	7.0
2	康光宇		4	83	3.0	4.0