硅基底上生长金刚石层细晶粒的研究

• 作者: 何敬晖 刘尔凯 玄真武
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 低气压 细晶粒 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 1202-1206
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 1641字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.047

摘要

金刚石/硅声表面波基片的金刚石层晶粒的细化有利于传播损耗的降低,本文采用热丝化学气相沉积法进行了硅基体上沉积细晶粒金刚石工艺的初步探索.探讨了基体温度、气压、氩气和甲烷浓度等因素对金刚石细晶粒生长的影响.对相应样品进行了扫描电镜和拉曼散射谱分析.结果表明:在低气压范围,相同氩气浓度,随着气压的降低,甲烷浓度也要相应降低,能保证金刚石结晶质量.同时,降低气压达到一定值后,金刚石晶粒尺寸变小,经测试可达到纳米级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何敬晖		7	41	3.0	6.0
2	玄真武		13	123	5.0	11.0
3	刘尔凯		4	55	2.0	4.0