研磨和抛光材料去除机理（二）

• 作者: 李长河 蔡光起
• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 材料去除机理 抛光盘 研磨 负载特性 泡沫塑料 相互作用 抛光加工 固体膜
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TG580.6

摘要

抛光盘通常由被衬以固体膜、毛毡、泡沫塑料或者纤维垫的刚性盘组成。结合工件-磨粒-抛光盘相互作用的材料去除机理将在负载特性部份讨论。一个极端情况是整个负载是由抛光盘、工件和磨粒之中的磨粒承担。另外一种极端情况是整个负载由抛光盘（垫）承担。通常，抛光加工是在这两种极限情况中间进行。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡光起	东北大学机械工程与自动化学院	246	4371	34.0	54.0
2	李长河	青岛理工大学机械工程学院	115	799	15.0	23.0