氢化物发生-原子荧光光谱法测定化妆品中痕量砷和铅

• 作者: 吴峥 汤志勇 郑洪涛 高金飞
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 工学
• 关键词: 原子荧光光谱法 化妆品 As、Pb
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 研究报告与简报
• 页码范围: 264-267
• 页数: 4页
• 分类号: TQ65
• 字数: 2681字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2007.z1.084

摘要

建立了氢化物发生-原子荧光光谱法测定化妆品中痕量As、Pb的方法,研究了样品前处理及实验条件对As、Pb测定的影响.本方法可同时用于固态、液态等各类样品处理的优点.测量As、Pb的线性范围分别为0～100 μg/L和0～120 μg/L,方法的检出限分别为0.94和1.22 μg/L,回收率分别为91.67%～102.67%和91.60%～98.80%,相对标准偏差(n=3)分别在1.7%～7.3%和2.2%～6.8%范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤志勇	中国地质大学材料科学与化学工程学院	101	818	14.0	21.0
2	郑洪涛	中国地质大学材料科学与化学工程学院	19	133	6.0	10.0
3	吴峥	中国地质大学材料科学与化学工程学院	2	9	2.0	2.0
4	高金飞	中国地质大学材料科学与化学工程学院	2	43	2.0	2.0