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摘要:
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45nm CMOS工艺下的低泄漏多米诺电路研究
多米诺逻辑
阈值电压
亚阈值泄漏
栅极氧化层
改变检测波长HPLC法测定红霉素的含量
高效液相色谱法
红霉素
基于45nm SOI CMOS工艺的10bit、125MS/s过零检测Pipeline-SAR ADC设计
流水线模数转换器
逐次逼近
过零检测
高速动态比较器
低功耗
超浅结亚45nm MOSFET 亚阈值区二维电势模型
超浅结亚45nm MOSFET
二维电势半解析模型
亚阈值电流
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 不改变光刻波长实现45nm半节距
来源期刊 集成电路应用 学科
关键词
年,卷(期) 2007,(4) 所属期刊栏目 工艺与制造
研究方向 页码范围 38-42
页数 5页 分类号
字数 5281字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2583.2007.04.012
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2008(1)
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
总被引数(次)
4205
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