TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能

• 作者: 吕凤军 斯永敏
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TbDyFe/FeNi多层膜 真空退火
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 537-540
• 页数: 4页
• 分类号: TM271
• 字数: 2064字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2007.04.011

摘要

本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火、外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	斯永敏	国防科技大学航天与材料工程学院	28	191	10.0	12.0
2	吕凤军		13	47	4.0	6.0