加速器质谱测量用HfF4样品的制备研究

• 作者: 仇九子 姜涛 杨君 杨通在
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 化学
• 关键词: HfF4 加速器质谱 样品制备 去污系数
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 660-664
• 页数: 5页
• 分类号: O614.413|TL92|TL12
• 字数: 2146字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2007.08.006

摘要

研究了用于加速器质谱(AMS)测量的HfF4样品的制备方法.通过分离纯化流程和HfF4的制备流程,将HfO2样品制成符合加速器质谱测量用的HfF4.流程去杂质能力很强,特别是对钨的去污,样品基本满足测量要求.全流程产额约为70%,对钨的去污系数约为106.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨通在	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	50	260	7.0	14.0
2	杨君	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	8	17	2.0	3.0
3	姜涛	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	20	54	4.0	6.0
4	仇九子	中国原子能科学研究院核物理研究所	5	10	2.0	3.0