用纵向磁光克尔效应观察Co/Cu/Co三层膜正交方向磁矩随磁场的翻转过程

• 作者: 吴平 潘礼庆 王凤平 王屹东 王蕾 邱宏
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁光克尔效应 磁矩翻转 三层膜
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 冶金与材料
• 页码范围: 712-716
• 页数: 5页
• 分类号: TM271
• 字数: 2873字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2007.07.014

摘要

运用光弹调制器和锁向放大器作为主要的光电子仪器,搭建磁光克尔效应实验系统,将平行和垂直磁场应用于纵向磁光克尔(Kerr)效应,用来分析薄膜正交方向磁矩随磁场翻转的情况.应用此方法,研究了在不同衬底上用磁控溅射方法制备的Co(2.7 nm)/Cu(2 nm)/Co(2.7 nm)三层膜的磁性及磁矩翻转,探索其耦合机理.衬底与间隔层Cu层表面结构的差异,诱导了底层Co与表面层Co结构的差异,导致底层和表面层Co膜的矫顽力不同,从而实现了两铁磁层的磁矩翻转不一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王蕾	北京科技大学物理系	10	69	5.0	8.0
2	吴平	北京科技大学物理系	93	481	11.0	17.0
3	潘礼庆	北京科技大学物理系	30	180	8.0	12.0
4	邱宏	北京科技大学物理系	37	225	9.0	13.0
5	王凤平	北京科技大学物理系	31	474	11.0	21.0
6	王屹东	北京科技大学物理系	1	1	1.0	1.0